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MLL系列

MLL-C500/C900无掩膜直写光刻设备是自主研发生产的一款精巧型光刻产品,广泛应用多种微纳光刻加工领域的研究与生产,光刻最小线宽600nm,套刻对准精度500 nm器件直写光刻功能。适用于小批量、多品种的科研院所使用。
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参数

1、产品介绍
MLL-C500/C900无掩膜直写光刻设备是自主研发生产的一款精巧型光刻产品,广泛应用多种微纳光刻加工领域的研究与生产,光刻最小线宽600nm,套刻对准精度500 nm器件直写光刻功能。适用于小批量、多品种的科研院所使用。

     •    器件直写光刻功能

     •    3D结构曝光功能

     •    掩膜版曝光功能

     •    背面对准功能

     •    可视化定点对准曝光功能

     •    快速、精细两种曝光模式

     •    多种数据输入格式(GDSⅡ/ DXF/CIF/Gerber/ BMP/TIFF)

     •    基于Windows系统,用户界面方便操作

 

2、技术规格

3、应用领域
    IC芯片
   掩模版
   MEMS芯片
   生物芯片

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