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MLL系列

MLL-C500/C900无掩膜直写光刻设备是自主研发生产的一款精巧型光刻产品,广泛应用多种微纳光刻加工领域的研究与生产,光刻最小线宽600nm,套刻对准精度500 nm器件直写光刻功能。适用于小批量、多品种的科研院所使用。
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参数
1、产品介绍
MLL-C500/C900无掩膜直写光刻设备是自主研发生产的一款精巧型光刻产品,广泛应用多种微纳光刻加工领域的研究与生产,光刻最小线宽600nm,套刻对准精度500 nm器件直写光刻功能。适用于小批量、多品种的科研院所使用

      器件直写光刻功能

      3D结构曝光功能

      掩膜版制作功能

      背面对准功能

      可视化定点对准曝光功能

      快速、精细两种曝光模式

      多种数据输入格式(GDS/ DXF/CIF/Gerber/ BMP/TIFF

      基于Windows系统,用户界面方便操作

 

2、技术规格

序号

项目

单位

MLL-C900

MLL-C500

1

最小线宽

nm

600

900

2

最高产能

mm2/min

250

150

3

套刻精度

3σ,nm

500

800

4

最大基板尺寸

Inch

8(可拓展)

6(可拓展)

5

线宽均匀性

3σ,nm

150

200

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
3、应用领域
 集成电路芯片
 掩模版
 MEMS芯片
 生物芯片
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