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MLL系列
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参数
1、产品介绍
MLL-C500/C900无掩膜直写光刻设备是自主研发生产的一款精巧型光刻产品,广泛应用多种微纳光刻加工领域的研究与生产,光刻最小线宽600nm,套刻对准精度500 nm器件直写光刻功能。适用于小批量、多品种的科研院所使用。
• 器件直写光刻功能
• 3D结构曝光功能
• 掩膜版曝光功能
• 背面对准功能
• 可视化定点对准曝光功能
• 快速、精细两种曝光模式
• 多种数据输入格式(GDSⅡ/ DXF/CIF/Gerber/ BMP/TIFF)
• 基于Windows系统,用户界面方便操作
2、技术规格
3、应用领域
IC芯片
掩模版
MEMS芯片
生物芯片
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