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LDW-D1

LDW-D1直写光刻设备是自主研发生产的一款高端量产设备,采用高端空间光调制器件,结合先进的数据处理系统,可实现高解析、高产能、智能管控的量产需要。设备主要应用于平板显示、先进封装等微纳加工领域。
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参数
1、产品介绍
LDW-D1直写光刻设备是自主研发生产的一款高端量产设备,采用高端空间光调制器件,结合先进的数据处理系统,可实现高解析、高产能、智能管控的量产需要。设备主要应用于平板显示、先进封装等微纳加工领域。

      网格精度:20nm

      最小线宽:700nm

      基板尺寸: 12inch(可拓展)

      曝边:选配

      智能化:自动打码、读码、对接MES系统

      支持格式: GDSII/ODB++/Gerber

 
2、技术规格

序号

项目

单位

LDW-D1

1

最小线宽

nm

700

2

最高产能

mm2/min

3000

3

套刻精度

3σ,nm

400

4

最大基板尺寸

mm

300*300mm

 

 

 

 

 

 

3、应用领域

平板显示

先进封装

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