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MLL-C900
MLL-C900无掩膜直写光刻设备是自主研发生产的一款精 巧型光刻产品,广泛应用多种微纳光刻加工领域的研究与 生产,光刻最小线宽600nm,套刻对准精度500 nm器件 直写光刻功能。适用于小批量、多品种的科研院所使用
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