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MAS8直接成像系列
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产品描述
参数
1.产品描述
MAS8是业界领先的直接成像解决方案,适用于IC封装载板如FCBGA和FCCSP等,搭配高剂量封装常用干膜可实现高产能。 该系统采用DMD技术,通过高达0.5μm的资料解析度,实现8μm精细线路的线宽一致性,在保证最佳品质的同时,可降低整体运行成本。
2.产品特点
业界领先的直接成像系统
- 基于DMD扫描光刻方案,搭载高性能数据处理技术与CFMEE专业光学镜组,无需底片,直接曝光,可节约成本,缩短流程,提升良率。
- 高功率LD激光配合高效率光路设计,在提供最高产速的同时,可灵活搭配各类感光材料。
高成像品质与高产能
- 高解析及高性能光学系统, 实现精细线路的高成像品质与高产能。
- 高景深:采用经市场验证的CFMEE专业的光学设计,可带来优异的高景深,应对各种表面高度不均的板材, 实现最佳的曝光成像品质。
对位精度与涨缩模式
- 搭载高精度移动平台与CCD靶点识别系统,对位精度高至±5μm。
- 涨缩功能:自动涨缩、固定涨缩、分段涨缩、分区涨缩、智能涨缩及其他高阶涨缩模式,并在对位过程中对异常板材自动预警或拒曝,增强品质管控,提升良率。
- 拼板曝光:可根据基板尺寸大小,一次性曝光多块,极大的提升产能。
- 对位能力:系统自动高速抓靶对位,可支持各类对位靶点,亦可针对异常靶点使用拟合功能,保证对位精度的同时提升产能。
产品追溯
- 在任意指定位置,曝光生成文字或二维码,用于板件追溯。
- 支持静态及动态stamp标签,如时间、日期、序列号、设备号,涨缩值以及各类组合序列号等。
智能制造
- CFMEE DI产品具备智能制造的相关硬件及软件功能,实现高度自动化以及智能化生产。
- 专业的软件开发团队,可支持各类工业通讯协议,实现与MES制造执行系统的无缝连接。
3.技术规格
设备型号 | MAS8 | |
最高产能 | 120面/小时 | |
资料解析度[μm]
|
0.5 | |
最小线宽/线距*[μm]
|
8/8 | |
景深*[μm]
|
±80
|
|
线宽均匀性[μm]
|
±10% | |
最大曝光面积 | 28.5"x24.5" | |
对位精度**[μm] | ±6 | |
层间对位精度**[μm] | 12 |
*显影后,最小线宽/线距与景深取决于感光材料特性及制程。
**对位精度值为3 sigma。
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