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MLL-C900

MLL-C900无掩膜直写光刻设备是自主研发生产的一款精 巧型光刻产品,广泛应用多种微纳光刻加工领域的研究与 生产,光刻最小线宽600nm,套刻对准精度500 nm器件 直写光刻功能。适用于小批量、多品种的科研院所使用
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 1.产品描述

 

      MLL-C900无掩膜直写光刻设备是自主研发生产的一款精 巧型光刻产品,广泛应用多种微纳光刻加工领域的研究与 生产,光刻最小线宽600nm,套刻对准精度500 nm器件 直写光刻功能。适用于小批量、多品种的科研院所使用

 

2.产品特点

 

   •  器件直写光刻功能

 

   •  3D结构曝光功能

 

   •  掩膜版曝光功能

 

   •  背面对准功能

 

   •  可视化定点对准曝光功能

 

   •  快速、精细两种曝光模式

 

   •  多种数据输入格式(GDSⅡ/DXF/CIF/Gerber/BMP/TIFF)

 

   •  基于Windows系统,用户界面方便操作

 

3.技术规格

 

设备型号 MLL-C900
最小线宽[nm] 600
最高产能[mm²/min] 250
套刻精度[3σ,nm] 500
最大基板尺寸[inch] 8(可拓展)
线宽均匀性[3σ,nm] 150

  

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