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MLL-C900
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产品描述
参数
1.产品描述
MLL-C900无掩膜直写光刻设备是自主研发生产的一款精巧型光刻产品，广泛应用多种微纳光刻加工领域的研究与生产，光刻最小线宽600nm，套刻对准精度500nm器件 直写光刻功能。适用于小批量、多品种的科研院所使用
2.产品特点
• 器件直写光刻功能
• 3D结构曝光功能
• 掩膜版曝光功能
• 背面对准功能
• 可视化定点对准曝光功能
• 快速、精细两种曝光模式
• 多种数据输入格式（GDSⅡ/DXF/CIF/Gerber/BMP/TIFF）
• 基于Windows系统，用户界面方便操作
3.技术规格
| 设备型号 | MLL-C900 | |
| 最小线宽[nm] | 600 | |
| 最高产能[mm²/min] | 250 | |
| 套刻精度[3σ,nm] | 500 | |
| 最大基板尺寸[inch] | 8（可拓展） | |
| 线宽均匀性[3σ,nm] | 150 | |
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股票代码：688630
