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LDW500
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产品描述
参数
1.产品描述
LDW500直写光刻机基于先进的DLP数字光刻技术,采用高精度的精密运动系统、光学系统、微环境控制系统,同时具备实时聚焦、自动居中对位等功能,可满足制版及器件直写要求。
2.产品特点
• 器件直写光刻功能
• 3D结构曝光功能
• 掩膜版曝光功能
• 可视化定点对准曝光功能
• 快速、精细两种曝光模式
• 多种数据输入格式(GDSⅡ/Gerber/ODB++)
• 基于Windows系统,用户界面方便操作
3.技术规格
设备型号 | LDW500 | ||
Ⅰ | Ⅱ | ||
支持基板尺寸 | 6inch | 6inch | |
分辨率 | 500nm | 1500nm | |
网格精度 | 15nm | 60nm | |
图形位置精度 | 200nm | 200nm | |
套刻精度 | 300nm | 500nm | |
线宽均匀性[3σ] | 100nm | 200nm | |
产能 | 350mm2/min | 1000mm2/min |
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