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LDW500
LDW500直写光刻机基于先进的DLP数字光刻技术,采用高精度的精密运动系统、光学系统、微环境控制系统,同时具备实时聚焦、自动居中对位等功能,可满足制版及器件直写要求。
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LDW350
      LDW350直写光刻机基于先进的DLP数字光刻技术,采用高精度的精密运动系统、光学系统、微环境控制系统,同时具备实时聚焦、自动居中对位等功能,可满足130nm节点的制版需求。
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MLF系列
    MLF系列光刻机结构紧凑,景深大、速度快,适用于功率器件、陶瓷封装等领域,对干膜和光刻胶均有良好的工艺适应性,是一款经济、灵活的量产设备。
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MLC600
MLC600直写光刻机是由合肥芯碁微电子装备股份有限公司自主研发生产的一款精巧型光刻产品,其功能灵活、体积小、性价比高,专为世界各大高校及研究所量身打造。
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WLP2000
WLP2000直写光刻机采用最先进的数字光刻技术,无需掩模板,可直接将版图信息转移到涂有光刻胶的衬底上,主要应用于8inch/12inch集成电路先进封装领域,包括Flip Chip、Fan-In WLP、 Fan-Out WLP和2.5D/3D等先进封装形式。该系统采用多光学引擎并行扫描技术,具备自动套刻、背部对准、智能纠偏、WEE/WEP功能,在RDL、Bumping和TSV等制程工艺中优势明显。
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MAS8直接成像系列
MAS8是业界领先的直接成像解决方案,适用于IC封装载板如FCBGA和FCCSP等,搭配高剂量封装常用干膜可实现高产能。 该系统采用DMD技术,通过高达0.35μm的资料解析度,实现6μm精细线路的线宽一致性,在保证最佳品质的同时,可降低整体运行成本。
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MAS6直接成像系列
MAS6是业界领先的直接成像解决方案,适用于IC封装载板如FCBGA和FCCSP等,搭配高剂量封装常用干膜可实现高产能。 该系统采用DMD技术,通过高达0.35μm的资料解析度,实现6μm精细线路的线宽一致性,在保证最佳品质的同时,可降低整体运行成本。
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