LDW500
LDW500直写光刻机基于先进的DLP数字光刻技术,采用高精度的精密运动系统、光学系统、微环境控制系统,同时具备实时聚焦、自动居中对位等功能,可满足制版及器件直写要求。


LDW350
LDW350直写光刻机基于先进的DLP数字光刻技术,采用高精度的精密运动系统、光学系统、微环境控制系统,同时具备实时聚焦、自动居中对位等功能,可满足130nm节点的制版需求。


WLP2000
WLP2000直写光刻机采用最先进的数字光刻技术,无需掩模板,可直接将版图信息转移到涂有光刻胶的衬底上,主要应用于8inch/12inch集成电路先进封装领域,包括Flip Chip、Fan-In WLP、 Fan-Out WLP和2.5D/3D等先进封装形式。该系统采用多光学引擎并行扫描技术,具备自动套刻、背部对准、智能纠偏、WEE/WEP功能,在RDL、Bumping和TSV等制程工艺中优势明显。


MAS8直接成像系列
MAS8是业界领先的直接成像解决方案,适用于IC封装载板如FCBGA和FCCSP等,搭配高剂量封装常用干膜可实现高产能。
该系统采用DMD技术,通过高达0.35μm的资料解析度,实现6μm精细线路的线宽一致性,在保证最佳品质的同时,可降低整体运行成本。


MAS6直接成像系列
MAS6是业界领先的直接成像解决方案,适用于IC封装载板如FCBGA和FCCSP等,搭配高剂量封装常用干膜可实现高产能。 该系统采用DMD技术,通过高达0.35μm的资料解析度,实现6μm精细线路的线宽一致性,在保证最佳品质的同时,可降低整体运行成本。


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